南京大學國家重點實驗室完成nanoArchP110 驗收

發布日期：2017-07-14

瀏覽量：5559次

2017年6月30日，摩方材料出品的微納米尺度3D打印系統設備nanoArch™ P110由南京大學正式通過驗收。這是摩方材料成長過程中，繼nanoArch™ P120之后的又一里程碑，其代表著摩方材料在通往高精密微納打印的道路上，逐漸邁向成熟，如同摩方材料公司核心價值觀一樣，穩中求進，逐漸強大。

nanoArch™采用PμLSE（面投影微立體光刻）技術，是用于實現高精度多材料微納尺度3D打印的設備。其通過將紫外光投影到液態樹脂表面使其固化，逐層累加從而完成產品的制作，即通過一次曝光可以完成一層的制作。

nanoArch System 是基于PULSE技術(面投影微立體光刻技術)的微納米級3D打印系統，PμLSE技術(面投影微立體光刻技術)被認為是目前最有前景的微納加工技術之一。

微納3D打印機nanoArch P110是采用PμLSE（面投影微立體光刻）技術，用于實現高精度多材料微納尺度3D打印的設備。通過將紫外光投影到液態樹脂表面使其固化，逐層累加從而完成產品的制作。通過一次曝光可以完成一層的制作，具備成型效率高、生產成本低、打印精度高等突出優勢，并能實現多材料的微納尺度材料三維打印。微結構分辨率可達2μm。

在微納加工領域，BMF Material擁有多年的實踐經驗，針對客戶在設備使用中可能出現的工藝難題，提供簡易高效的技術支撐方案；并可幫助客戶挖掘廣泛的科學家研究網絡，促進材料研究。

微納3D打印機nanoArch P110有以下四個顯著的產品特點：

(1).可定制高定位精度的光學系統和運動平臺，兩者最高分辨率皆可達到2μm。

(2).配置高精度CCD圖像監控系統，實現光學對焦及實時曝光補償，方便用戶監控打印過程中異常。

(3).采用圖像拼接成型方式解決成型精度與大尺寸成型之間的矛盾。

(4).通過工藝技術控制，實現3D打印成品的表面光滑。

nanoArch™ P110 打印參數：

打印尺寸：	80x80 mm	打印技術：	PμLSE
機器尺寸：	1750x650x1820mm	操作軟件：	LabView
模型厚度：	50mm	操作系統：	WINDOWS
XY方向精度：	2 um	文件格式：	PNG/STL
Z方向精度：	10 um	輸入電壓：	220V /50HZ
打印耗材：	光敏樹脂	機器功率：	3000W
環境溫度：	25±2℃	機器重量：	500KG

使用材料：

耗材要求：兼容各種中、低粘度405nm波長光固化樹脂體系

應用行業：

1 科研類

? X.Zheng, W.Smith, J.Jackson, B.Moran, H.Cui, D.Chen, J.Ye, N.Fang, N.Rodriguez, T.Weisgraber & C.M.Spadaccini, "Multiscale Metallic Metamaterials", Nature Materials,15(10):1100 (2016)

? X. Zheng, H. Lee, T. H. Weisgraber, M. Shusteff, J. DeOtte, E. B. Duoss, J. D. Kuntz, M.M. Biener, Q. Ge, J. A. Jackson, S. O. Kucheyev, N. X. Fang, C. M. Spadaccini, “Ultralight, ultrastiff mechanical metamaterials”, Science, Vol 344(6190), 1373-7(2014).

? Z.Liu, H.Lee, Y.Xiong, C.Sun,and X,Zhang, "Far-Field Optical Hyperlens Magnifying
Sub-Diffraction-Limited Objects" Science 315(5819):1686 (2007)

? N.Fang, H.Lee, C.Sun, and X.Zhang, "Sub-Diffraction-Limited Optical Imaging with a Silver Superlens", Science, 308(5721), pp534-537, (2005)

2輕量化材料